IC프로세스

아주대학교
이종욱

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주제분류

공학 >전기ㆍ전자 >전자공학
강의학기

2015년 1학기

조회수

4,045

강의계획서

MOSFET, IC(집적회로)의 제조 방법 뿐만아니라 공정조건이 반도체소자 및 IC의 전기적인 특성에 미치는 영향에 대하여 공부한다. SiO₂절연체의 제조방법인 산화 공정(oxidation), MOSFET의 베이스, 에미터, 소오스, 드레인 영역의 형성방법인 확산공정(diffusion)과 이온주입공정, 에피택시, CVD공정, 미세패턴 제작을 위한 사진식각기술, 금속전극배선, 기타CMP, 시험공정에 관한 기본원리, 이론을 심도있게 다룬다.

차시별 강의

1.		Introduction of Semiconductor Industry
2.		Introduction of Semiconductor Industry
3.		Characteristics of Semiconductor Materials(1)
4.		Characteristics of Semiconductor Materials(2)
5.		Si Wafer Preparation(Wafering)
6.		Wet Cleaning Process
7.		Oxidation Process
8.		Diffusion Process
9.		Ion Implantation Process
10.		Chemical Vapor Deposition (CVD) Process
11.		Metallization Process
12.		Photolithography Process
13.		Dry Etch Process
14.		Chemical Mechanical Polishing (CMP) Process