분석학 특론

연세대학교
유난시아

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주제분류

공학 >컴퓨터ㆍ통신 >정보통신공학
강의학기

2012년 1학기

조회수

5,412

Physical Methods for Materials Scientists

This course aims to provide an introduction to various techniques and methods

that are widely used in materials research, including spectroscopic

(electronic, vibrational, Raman, rotational, magnetic resonance), surface

analytical tools, and microscopic techniques

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Electromagnetic Radiation

차시별 강의

1.	Electromagnetic Radiation	전자기파의 특성 및 반사 굴절 편광 특성을 설명하였다.
	Static light scattering	전자기파의 산란이 일어날 때 입자의 크기에 따른 현상을 설명하였다.
2.	Random walk	브라운 운동을 해석하기 위한 랜덤워크 이론을 설명하였다.
	Dynamic light scattering	빛을 산란을 이용하여 입자의 크기를 측정할 수 있는 dynamic light scattering 을 설명 하였다.
3.	optical / Electron Microscopy	현미경 해상도의 이론적 한계에 대한 설명과 전자현미경의 이론적 배경을 설명하였다.
	Electron Microscopy, Beer Lambert Law	전자현미경으로 시료를 측정 할 때 발생하는 auger electron, x-ray, 이차전자에 대한 설명과 Berr Lambert Law 측정법에 대해 설명하였다.
4.	surface analysis	물질 표면분석법등 중 AES, EDS, XPS 해상도 범위와 정확도, 이론적 배경등을 설명 하였다.
	Fluorescence	인광, 형광에 대한 이론적 설명과 이를 이용하여 monolayer 분석이 가능한 fluorescence recovery after photobleaching (FRAP)을 설명 하였다.
5.	Diffraction Method	Diffraction pattern에 대한 이론적 배경과 해석 방법에 대하여 설명하였다.
	Scanning Probe Microscopy	Scanning Probe를 이용한 측정법의 이론적 배경과 tip의 mode에 따른 차이점을 설명 하였고, 이를 이용한 분석법을 설명하였다.
6.	raman scattering, electron sepectroscopy for chemical analysis	라만분석법의 기본 배경지식과 라만 측정시 나타나는 surface enhanceed raman scattering에 대해 설명하고 이를 이용한 application을 소개하였다. 샘플에서 방출되는 전자를 이용한 측정 장비들을 소개하였다. Source의 차이에 따라 XPS, UPS, AES 로 나눠지고 각각의 특징을 설명하였다.