1. | ![]() |
Electromagnetic Radiation | 전자기파의 특성 및 반사 굴절 편광 특성을 설명하였다. | ![]() |
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Static light scattering | 전자기파의 산란이 일어날 때 입자의 크기에 따른 현상을 설명하였다. | ![]() |
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2. | ![]() |
Random walk | 브라운 운동을 해석하기 위한 랜덤워크 이론을 설명하였다. | ![]() |
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Dynamic light scattering | 빛을 산란을 이용하여 입자의 크기를 측정할 수 있는 dynamic light scattering 을 설명 하였다. | ![]() |
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3. | ![]() |
optical / Electron Microscopy | 현미경 해상도의 이론적 한계에 대한 설명과 전자현미경의 이론적 배경을 설명하였다. | ![]() |
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Electron Microscopy, Beer Lambert Law | 전자현미경으로 시료를 측정 할 때 발생하는 auger electron, x-ray, 이차전자에 대한 설명과 Berr Lambert Law 측정법에 대해 설명하였다. | ![]() |
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4. | ![]() |
surface analysis | 물질 표면분석법등 중 AES, EDS, XPS 해상도 범위와 정확도, 이론적 배경등을 설명 하였다. | ![]() |
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Fluorescence | 인광, 형광에 대한 이론적 설명과 이를 이용하여 monolayer 분석이 가능한 fluorescence recovery after photobleaching (FRAP)을 설명 하였다. | ![]() |
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5. | ![]() |
Diffraction Method | Diffraction pattern에 대한 이론적 배경과 해석 방법에 대하여 설명하였다. | ![]() |
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Scanning Probe Microscopy | Scanning Probe를 이용한 측정법의 이론적 배경과 tip의 mode에 따른 차이점을 설명 하였고, 이를 이용한 분석법을 설명하였다. | ![]() |
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6. | ![]() |
raman scattering, electron sepectroscopy for chemical analysis | 라만분석법의 기본 배경지식과 라만 측정시 나타나는 surface enhanceed raman scattering에 대해 설명하고 이를 이용한 application을 소개하였다. 샘플에서 방출되는 전자를 이용한 측정 장비들을 소개하였다. Source의 차이에 따라 XPS, UPS, AES 로 나눠지고 각각의 특징을 설명하였다. |
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