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반도체 공정 소개 1 | 반도체 집적회로(IC)의 소개와 역사, 소자의 종류 소개 | ![]() |
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반도체 공정 소개 2 | 반도체 집적회로(IC)의 제조공정 과정 순서와 wafer 공정 과정 소개 | ![]() |
3. | ![]() |
Si wafer 제작 | 반도체 집적회로 공정을 위한 Si wafer 제작 방법 | ![]() |
4. | ![]() |
Si wafering과 epi growth | Si wafer의 제작 결함 분석, 제조과정과 박막 성장 방법 | ![]() |
5. | ![]() |
Epi growth 방법과 종류 | 여러 가지 박막 성장 방법과 그 종류들에 대한 설명 | ![]() |
6. | ![]() |
Photolithography 공정 순서 | Photolithography 공정에 대한 전체 과정의 설명 | ![]() |
7. | ![]() |
Photoresist의 공정 | Photoresist에 대한 특성과 공정 과정 설명 | ![]() |
8. | ![]() |
Photo mask와 aligner | 노광에 필요한 mask와 노광 장치의 종류와 원리 설명 | ![]() |
9. | ![]() |
Developing 공정 | 현상(developing)의 방법과 종류 및 photolithography 공정의 문제점 | ![]() |
10. | ![]() |
산화막 공정 | SiO2 산화막의 공정 방법과 특성 설명 | ![]() |